1996-04-26 第136回国会 参議院 環境特別委員会 第8号
したがいまして、この指定物質の抑制基準につきましては、やはり排出の状況とかあるいは実施可能な対策等、例えば活性炭吸着処理それから燃焼処理など既に汎用性のあるものとして普及しつつある処理技術を採用することによって、現時点で達成可能な最善のレベルで設定することを今検討しているところでございます。
したがいまして、この指定物質の抑制基準につきましては、やはり排出の状況とかあるいは実施可能な対策等、例えば活性炭吸着処理それから燃焼処理など既に汎用性のあるものとして普及しつつある処理技術を採用することによって、現時点で達成可能な最善のレベルで設定することを今検討しているところでございます。
しかし活性炭吸着処理の場合には除去率は九〇％から九五％と高くなっておると思います。ですから、要するに除去技術はあるんですね。あるんだから、半導体産業からの有機溶剤の大気への排出を法律で規制し削減する対策が必要じゃないかと思いますが、まず御答弁いただきたいと思います。